Vista-300纳米红外成像系统介绍：

傅立叶变化红外光谱（Fourier Transform infrared spectroscopy, FTIR）广泛应用于各种化学分析，尤其是聚合物和有机化合物分析，为现代化学提供了重要的分析手段。随着半导体制程特征线宽越来越小，对缺陷检测的要求也越来越高，纳米红外成像系统是一种可以直接检测纳米级缺陷成分的检测工具，特别适合用检测晶圆及DUV/EUV光罩污染物。Vista 300 可以配置真空吸盘或专用EUV光罩支架，可兼容12寸及以下晶圆测量。可实现纳米级化学成像、晶圆/光罩污染物分析和失效分析。

自动光谱采集AutoPiFM

AutoPiFM可以从头开始生成一个完整的数据集，包括检测到的每种化学成分的固定波数下的PiFM图像，以及每种化学成股份中的 PiF-IR全光谱，示例中可识别出不同成分的污染物。

自动对焦Automatic alignment

运用计算机视觉实现激发激光器的自动对焦，确保了最佳对焦效果，可以大幅度提高使用效率。

紧凑式设计

由于我们的自动光束对准和集成的多路切换器，我们可以将激光器封装在仪器下方，从而是一个更紧凑的设计。Vista 300 支持多达两个激光器，以覆盖整个红外光谱范围（参见规格）。

功能强大但无损

PiFM以真正的非接触模式（true non-contact AFM-IR mode）运行。该仪器不会接触您的原始样品，因此样品可以保持清洁，针尖也是如此。

支持KLARF格式文件

Vista 300 支持 KLARF 文件格式，从而可通过300mm移动台定位缺陷。

简化流程

我们的数据分析软件使您的团队能够快速从测量结果到可展示的结果。与我们的数据采集软件紧密集成，使您能够实时获得所需的答案。我们的脚本API允许自定义配方，并且文件是开放的，因此很容易与第三方软件集成。

卓越的AFM性能

凭借90μm的XY扫描器、12 μm Z向扫描范围和集成的隔振台，我们的AFM性能优异。高带宽双Z反馈系统允许对IR PiFM进行真正的非接触式扫描。

专为工业领域打造

400 mm宽的样品可直接通过进样舱门进样，可最大限度地减少热漂移导致的干扰，同时最大限度地提高通量。借助我们的前向移动载物台和用户友好的头部安装，探针和样品都可以轻松更换，而无需打开整个外壳，最大限度地提高效率。

规格

样品台行程：300 mm × 300 mm

扫描范围：90 µm × 90 µm

双Z 反馈：12 µm Z向扫描器同时附带600 nm快速Z扫描可满足高通量和Z向大量程扫描需求

成像模式：Non-contact AFM, PiFM, KPFM, cAFM, nano DMA, FvD (force vs distance) mapping

应用

1.晶圆缺陷与污染物分析

光诱导力显微镜可以对纳米级缺陷的尺寸和化学成分进行测量与分类。示例形貌图显示缺陷的大小约为40-200 nm，可以用不同颜色标记PTFE、PMMA和PS颗粒。

2.单分子层污染物检测

氨基硅烷单层膜是表面功能化的常用材料。该颗粒最薄约0.65nm，氨基硅烷峰在1677 cm−1处的强度随着厚度增加而增强，同理，位于氨基硅烷簇下方的1060 cm−1 处的峰值强度随厚度增加而减弱。

Vista 300 Platform:

Visible ~ IR chemical imaging and spectroscopy, E-field imaging, photovoltage/current imaging with sub-10 nm spatial resolution.

Also being combined with Confocal Raman, PL imaging and other kinds of far field spectroscopy and optical microscopy.